|
|
 |
|
|
 |
|
|
|
|
半導体メーカ、ＰＦＣの排出量を削減
着々と２０１０年排出削減目標達成に向かう世界のチップメーカ
世界半導体会議（ＷＳＣ）議長
社団法人 電子情報技術産業協会（ＪＥＩＴＡ）半導体部会長
伊 藤 達
（ルネサステクノロジ社長兼ＣＥＯ） |
京都で開催した世界半導体会議（WSC）は、本日採択された共同声明の中で、2010年までに地球温暖化ガスであるパーフルオロ化合物（PFC）の大気排出量について、基準レベルより10％以上削減するという目標を順調に達成しつつあると発表した。
EU、日本、韓国、米国、台湾の半導体業界団体は、1999年に「2010年までにPFCの排出量をそれぞれの基準レベルより10％以上削減する」と世界半導体会議（WSC）で確約した。本日、WSC
から発表されたデータは、実際の PFC排出削減が2010年の目標達成に向け着々と進んでいることを示している。
世界半導体会議のメンバーが一丸となって努力したPFC排出削減は、各国の業界団体と企業が団結すれば、困難と思われることでも達成できるということを示す好例である。今でも半導体製造工程では必ずPFCを使用しなければならないが、WSCの業界団体に属する企業はPFCの使用量を削減し、環境への影響を緩和する積極的な努力を重ねている。なお、この10年間、PFCの排出を削減するに当たっては、製造装置及び材料のサプライヤから多大なご支援とご協力をいただいた。
半導体製造工程では、シリコンウエーハのエッチングと成膜装置のチャンバのクリーニングでPFCに属するガスを使用している。半導体メーカ各社は、この間、工程の最適化、代替ガスの使用、代替製造工程の採用、除害装置の改良など様々な対策を講じてPFC排出量削減を実現させてきた。
WSCでは、PFCの排出量を追跡するための報告制度を確立させている。WSCメンバーはワーキング･グループの会議を1年に2回開催し、それぞれのPFC削減プログラムに関する関連データを共有している。また、「国際半導体環境安全会議（ISESH）」を毎年開催し、PFC削減に関する情報交換を行い、排出削減の技術や戦略に関する情報を率直に交換してきた。
以 上
（注）PFC（perfuloro compound）排出削減の基準年：日本、EU、米国が1995年、韓国が1997年、台湾が1997年と1999年の排出量の平均。
|
| |
 |
