JEITA

0.7μm以上 0.4μm以上、0.7μm未満	0.2μm以上、0.3μm未満 0.2μm未満	MOS IC計 バイポーラIC計
0.3μm以上、0.4μm未満 0.3μm未満	MOS 8インチウェハ MOS 8インチウェハ以外	IC計（MOS＋バイポーラ）

IC生産稼動率（%）

1999年 2000年 2001年 2002年 3Q 4Q 1Q 2Q 3Q 4Q 1Q 2Q 3Q 4Q 1Q 2Q MOS IC生産稼動率（設計ルール毎）                         　0.7μm以上 91.5 91.8 93.3 94.0 95.3 94.0 80.7 73.3 66.6 66.6 78.2 88.7 　0.4μm以上0.7μm未満 87.7 95.1 95.6 97.0 97.9 92.8 87.6 67.4 57.9 59.2 70.2 80.6 　0.3μm以上0.4μm未満 91.4 93.7 94.0 95.0 98.4 95.2 85.7 65.8 52.7 55.8 68.7 82.2 　0.3μm未満 95.5 97.5 97.3 96.2 97.2 92.4             　0.2μm以上0.3μm未満             86.7 74.0 56.3 55.3 66.2 78.3 　0.2μm未満             81.0 83.7 79.0 83.5 90.6 93.4 MOS IC生産稼動率（生産能力計） 91.5 94.5 95.2 95.5 97.1 93.4 84.2 73.8 64.0 66.1 78.0 86.8 MOSファンドリウェハ                     63.0 78.3 MOS 8インチウェハ 92.4 95.5 97.4 98.3 98.7 96.7 85.8 75.8 66.2 67.4 80.8 89.0 MOS 8インチウェハ以外 90.5 93.1 91.9 91.2 94.2 88.4 81.8 70.5 60.6 63.7 72.9 82.8 バイポーラIC生産稼動率（生産能力計） 86.1 89.2 89.3 90.7 90.0 87.4 80.1 67.7 65.6 63.7 70.4 82.8 IC生産稼動率（MOS＋バイポーラ生産能力計） 90.9 93.9 94.6 95.0 96.4 92.8 83.9 73.2 64.2 65.9 77.3 86.4

※斜体は修正値

注）SICASには世界の主要半導体メーカのほとんどが加盟しており、統計データはその加盟メーカの実績に基づく。