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プレスリリース

世界半導体生産キャパシティ統計<2000年第4四半期レポート>
-IC生産稼動率-

0.7μm以上
MOS IC(0.7μm以上)
0.4μm未満
0.3μm以上、0.4μm未満
0.3μm未満
MOS IC(0.4μm未満)
MOS IC計
バイポーラIC計
MOS IC計バイポーラIC 計
0.4μm以上、0.7μm未満
MOS IC(0.7μm未満)MOS IC(0.4μm以上0.7μm未満)
MOS 8インチウェハ
MOS 8インチウェハ以外
MOS 8インチウェハMOS 8インチウェハ以外
IC計(MOS+バイポーラ)
IC 計(MOS+バイポーラ)

IC生産稼動率(%)
 1998年1999年2000年
1Q2Q3Q4Q1Q2Q3Q4Q1Q2Q3Q4Q
MOS IC生産稼動率(設計ルール毎)            
 0.7μm以上90.685.380.879.182.988.491.591.893.394.095.395.1
 0.4μm以上0.7μm未満84.580.672.275.078.784.587.795.195.697.097.993.4
 0.4μm未満94.891.488.290.2        
 0.3μm以上0.4μm未満    91.194.191.493.794.095.098.495.4
 0.3μm未満    93.093.695.597.597.396.297.295.9
MOS IC生産稼動率(生産能力計)90.286.481.682.985.989.991.594.595.295.597.195.1
MOS 8インチウェハ93.088.986.989.092.792.192.495.597.498.398.797.4
MOS 8インチウェハ以外87.984.376.176.278.287.190.593.191.991.294.291.1
バイポーラIC生産稼動率(生産能力計)86.184.576.074.174.483.286.189.289.390.790.089.0
IC生産稼動率(MOS+バイポーラ生産能力計)89.686.180.881.784.589.190.993.994.695.096.494.5

注)SICASには世界の主要半導体メーカのほとんどが加盟しており、統計データはその加盟メーカの実績に基づく。

 
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